光受容部材の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金田暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-148146
公開番号（公開出願番号）：特開2001-330971
出願日： 2000年05月19日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：

【要約】【課題】電気的特性に優れ、かつ高品位の画像を得ることができる電子写真感光体の製造方法を提供する。【解決手段】本発明は真空成膜法により、連続して成膜されたアモルファスシリコンからなる2層以上の光導電層を少なくとも有する光受容部材の製造方法において、光導電層の各界面部の成膜時に、(1)Siを供給するための原料シリコンガスの流量、希釈ガスの流量及び印加されている高周波電力、の変化速度を所定の範囲内とし、(2)反応容器の圧力変動を所定の範囲内とし、(3)該界面部の厚さを所定の範囲内とする、ことを特徴とする光受容部材の製造方法を提供する。

請求項（抜粋）：

真空成膜法により、連続して成膜されたアモルファスシリコンからなる2層以上の光導電層を少なくとも有する光受容部材の製造方法において、光導電層の各界面部の成膜時に、(1)Siを供給するための原料シリコンガスの流量、希釈ガスの流量及び印加されている高周波電力、の変化速度を所定の範囲内とし、(2)反応容器の圧力変動を所定の範囲内とし、(3)該界面部の厚さを所定の範囲内とする、ことを特徴とする光受容部材の製造方法。

IPC (5件)：

G03G 5/06 360 , C23C 16/24 , C23C 16/509 , G03G 5/08 312 , H01L 21/205

FI (5件)：

G03G 5/06 360 , C23C 16/24 , C23C 16/509 , G03G 5/08 312 , H01L 21/205

Fターム (42件)：

2H068DA24 , 2H068DA41 , 2H068EA02 , 2H068EA24 , 2H068EA30 , 2H068EA34 , 2H068EA35 , 2H068FA01 , 4K030AA06 , 4K030AA20 , 4K030BA30 , 4K030BB12 , 4K030CA02 , 4K030CA16 , 4K030FA03 , 4K030JA05 , 4K030JA16 , 4K030LA04 , 5F045AA03 , 5F045AA08 , 5F045AA11 , 5F045AA18 , 5F045AA19 , 5F045AB04 , 5F045AC01 , 5F045AC02 , 5F045AC17 , 5F045AD06 , 5F045AD07 , 5F045AD08 , 5F045AD09 , 5F045AE19 , 5F045AF07 , 5F045AF10 , 5F045BB08 , 5F045BB09 , 5F045CA16 , 5F045DA52 , 5F045DP25 , 5F045DP28 , 5F045EE12 , 5F045EG06

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