特許

J-GLOBAL ID：200903004864508333

洗浄装置の加熱乾燥装置

発明者： 宮尾 明 ,  守山 照雄 ,  滝沢 芳治 ,  佐藤 友宏
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-016082
公開番号（公開出願番号）：特開平7-225080
出願日： 1994年02月10日
公開日（公表日）： 1995年08月22日
要約：

【要約】【目的】本発明の目的は、洗浄装置、特にガラス基板を洗浄対象物とする洗浄装置の加熱乾燥装置において、ガラス基板の温度を急速に立ち上げることができて、加熱乾燥時間の短縮,加熱工程の縮小ができる装置を提供することにある。【構成】ローラ6により搬送されたガラス基板7は上加熱板2,下加熱板8により加熱乾燥される。下加熱板8にはローラ6の外周上位置がのぞける挿入孔9があり、回転軸5の外周上位置よりも上部に設置されガラス基板7に近接している。回転軸5の冷却を行うために、反射板10が回転軸5の外周上位置よりも上部に、及び冷却プレート14が回転軸5の外周上位置より下部に設置してある。【効果】本発明によればガラス基板の温度を急速に立ち上げることができ、加熱時間の短縮、又は加熱工程の縮小を図ることができる。

請求項（抜粋）：

載置されるガラス基板等の被乾燥板を搬送する搬送部と、前記被乾燥板の下面を加熱する加熱板とを備え、前記搬送部は少なくとも二つの搬送用ローラが幅をとって取り付けられている回転軸を、並列に、かつ同回転軸の長手と直交する方向に複数列並べて構成されている洗浄装置の加熱乾燥装置において、前記加熱板は回転軸の外周上位置と前記搬送用ローラの外周上位置との間に置かれるように配置したことを特徴とする洗浄装置の加熱乾燥装置。

IPC (3件)：

F26B 13/04 ,  B65G 13/00 ,  F26B 13/10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-204737
  
• 特開昭58-075154