特許

J-GLOBAL ID：200903004869206572

基板処理装置

発明者： 木▲崎▼ 幸治
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-028486
公開番号（公開出願番号）：特開平9-199458
出願日： 1996年01月22日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】 光洗浄と物理洗浄とを単一の装置で行えるようにすることにより、それらの処理において必要とされる処理装置の占有面積と基板の搬送回数とを減少することのできる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 基板処理装置1は、基板Wを回転可能に支持するスピンチャック2と、基板Wの表面に当接して基板Wを洗浄する洗浄用ブラシ31を備えたブラシアーム3と、基板Wの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル41を備えたノズルアーム4と、基板Wの表面に紫外線を照射する紫外線ランプ51を内蔵したランプアーム5と、基板Wの表面に洗浄液を供給する複数のスプレーノズル6とを備える。ブラシアーム3と、ノズルアーム4と、ランプアーム5とは、スピンチャック2に支持された基板Wと対向する位置と、待機位置との間を移動可能に構成されている。

請求項（抜粋）：

基板を回転可能に支持する基板支持手段と、前記基板支持手段に支持された基板の表面に紫外線を照射するための紫外線ランプと、前記紫外線ランプを基板表面と対向する紫外線照射位置と待機位置との間で移動させる移動手段と、前記基板支持手段に支持されて回転する基板の表面に洗浄液を供給して基板表面を洗浄する基板洗浄手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 351 ,  B08B 3/02

FI (5件)：

H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/304 341 B ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 351 S ,  B08B 3/02 B