特許
J-GLOBAL ID：200903004877811620

情報処理装置、情報処理方法、およびプログラム

発明者：
山上 宗隆

山上 宗隆 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 谷川 英和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-329755
公開番号（公開出願番号）：特開2009-152433
出願日： 2007年12月21日
公開日（公表日）： 2009年07月09日
要約：
【課題】従来は、半導体製造のパラメータ調整を効率良く迅速に行うことができないという課題があった。【解決手段】半導体製造プロセスの1以上の種類の目標値を受付る目標値受付部101と、半導体製造プロセス実行時の1以上のパラメータの値を取得するパラメータ取得部102と、半導体製造プロセスの実行結果を示す1以上の種類の実行結果を取得する実行結果取得部103と、実行結果と目標値とパラメータの値とを対応付けて蓄積する蓄積部105と、蓄積した実行結果と目標値とパラメータの値との相関情報を取得する相関取得部107と、相関取得部107が取得した相関情報を用いて、目標値受付部101が受け付けた目標値に対して相関の高いパラメータに関する情報であるアシスト情報を取得するアシスト情報取得部108と、アシスト情報取得部が取得したアシスト情報を出力する出力部とを備えた。【選択図】図1
請求項１：
製造装置を用いて被処理基板に対して行われる所定の半導体製造プロセスにおける目標を示す値である1以上の種類の目標値を受け付ける目標値受付部と、 前記製造装置についての前記半導体製造プロセス実行時の1以上の種類のパラメータの値を取得するパラメータ取得部と、 前記半導体製造プロセスを実行した結果を示す値である1以上の種類の実行結果を取得する実行結果取得部と、 前記実行結果取得部が取得した実行結果と、前記目標値受付部が受け付けた目標値と、前記パラメータ取得部が取得したパラメータの値と、を対応付けて蓄積する蓄積部と、 前記蓄積部が蓄積した前記実行結果と、前記目標値と、前記パラメータの値と、の相関に関する情報である相関情報を取得する相関取得部と、 前記相関取得部が取得した相関情報を用いて、前記目標値受付部が受け付けた目標値に対して相関の高いパラメータに関する情報であるアシスト情報を取得するアシスト情報取得部と、 前記アシスト情報取得部が取得したアシスト情報を出力する出力部とを備えた情報処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/02 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/205
FI (3件)：
H01L21/02 Z ,  H01L21/302 101G ,  H01L21/205
Fターム (5件)：
5F004AA01 ,  5F004CA08 ,  5F045AA08 ,  5F045BB10 ,  5F045GB15
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM