特許
J-GLOBAL ID：200903004887872849
真空吸着装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-066409
公開番号（公開出願番号）：特開平6-254786
出願日： 1992年03月24日
公開日（公表日）： 1994年09月13日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、対象物が脆い場合であっても、格別な制御を必要とすることなく、これにダメージを与えずに吸着することを目的とする。【構成】 本発明は、被吸着面20の表面との間に減圧状態の密閉空間を形成する吸着パッド22において、前記被吸着面20へ向けられる側と反対側の面に吸着パッドを被吸着面側に変形させるべく加圧するための加圧室32を設けるとともに、前記吸着パッド22と被吸着面20とによって形成された密閉空間に真空圧を作用させるようにしたものである。また、前記真空圧を測定し、測定された真空圧によって前記加圧室32へ供給される流体を制御するようにしたものである。上記構成により、吸着パッド22を加圧しつつ真空圧を測定し、真空圧が上昇すること、すなわち吸着状態となったことを条件として加圧を停止することにより、被吸着物の表面に加わる圧力を最小限にすることができる。
請求項（抜粋）：
環状をなし、被吸着面と対向する方向へ移動可能な吸着パッドと、この吸着パッドの一方の面に取り付けられるパッド保持部とから構成され、 前記パッド保持部は、流体が供給されることにより前記吸着パッドの一方の面に正圧を作用させる加圧室と、前記吸着パッドの内周とワークの被吸着面とによって形成された空間に負圧を作用させる真空圧室とを有することを特徴とする真空吸着装置。
IPC (4件)：
B25J 15/06
, B23Q 7/04
, H01L 21/304 311
, H01L 21/68
