特許
J-GLOBAL ID：200903004894258455
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-094271
公開番号（公開出願番号）：特開2002-299314
出願日： 2001年03月28日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：
【要約】【課題】 マイクロ波プラズマ処理装置において、マイクロ波供給導波管とマイクロ波アンテナとの接続部における反射波の形成を抑制し、給電効率を向上させ、放電を抑制し、プラズマ処理装置中におけるプラズマ形成を安定化させる。【解決手段】 マイクロ波供給導波管とマイクロ波アンテナとの間に、インピーダンス変化を緩和させるためテーパ面や、中間的な誘電率を有する部材を設ける。
請求項（抜粋）：
外壁により画成され、被処理基板を保持する保持台を備えた処理容器と、前記処理容器に結合された排気系と、前記処理容器上に、前記保持台上の被処理基板に対面するように、前記外壁の一部として設けられたマイクロ波透過窓と、前記処理容器中にプラズマガスを供給するプラズマガス供給部と、前記処理容器上に、前記マイクロ波に対応して設けられたマイクロ波アンテナと、前記マイクロ波アンテナに電気的に結合されたマイクロ波電源とよりなり、前記マイクロ波アンテナは、前記マイクロ波電源に接続され、内側導体コアとこれを囲む外側導体管とよりなる同軸導波管と、前記同軸導波管の先端に設けられたアンテナ本体とよりなり、前記アンテナ本体は、前記マイクロ波透過窓に結合しマイクロ波放射面を形成する第1の導体面と、前記第1の導体面に対して誘電体板を隔てて対向し、前記誘電体板の外周部において前記第1の導体面に接続される第2の導体面とよりなり、前記内側導体コアは前記第1の導体面に第1の接続部により接続され、前記外側導体管は前記第2の導体面に第2の接続部により接続され、前記第1の接続部は、前記内側導体コアの外径が前記第1の導体面に向って増大する第1のテーパ部を形成し、前記第2の接続部は、前記外側導体管の内径が前記第1の導体面に向って増大する第2のテーパ部を形成することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/31
, H05H 1/46
H01L 21/31 C
, H05H 1/46 B
, H01L 21/302 B
5F004AA16
, 5F004BA20
, 5F004BB14
, 5F004BB18
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004BB32
, 5F004BC03
, 5F004DA00
, 5F004DA23
, 5F045AA09
, 5F045BB08
, 5F045BB15
, 5F045BB16
, 5F045DP03
, 5F045DQ10
, 5F045EF05
, 5F045EH02
, 5F045EH03
