特許
J-GLOBAL ID：200903004912386784
研摩布及びその製造方法とテクスチャ加工方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
竹内 澄夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-322032
公開番号（公開出願番号）：特開平11-138407
出願日： 1997年11月10日
公開日（公表日）： 1999年05月25日
要約：
【要約】【課題】 遊離砥粒を使用する磁気ハードデイスク基板のテクスチャ加工を微細且つ均一に行い、テクスチャ加工時間を短縮してスループットを向上するテクスチャ加工用の研摩布及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 プラスチック繊維の織り束を織り込んだ織布から成る基材(11)と、この基材の表面にわたって形成した研摩面(12)とから成る研摩布(10)において、研摩面が、織布の表面にあるプラスチック繊維の織り束の一部を切断して織布の表面から浮き起こしたプラスチック繊維(13)によって形成されることを特徴とするテクスチャ加工用研摩布。
請求項（抜粋）：
プラスチック繊維の織り束を織り込んだ織布から成る基材と、前記基材の表面にわたって形成した研摩面とから成るテクスチャ加工用の研摩布において、前記研摩面が、前記織布の表面にある前記プラスチック繊維の織り束の一部を切断して前記表面から浮き起こした前記プラスチック繊維によって形成されることを特徴とした、テクスチャ加工用の研摩布。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B24B 21/00 B
, B24D 11/00 D
