トリオルガノモノクロロシランの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：八木田茂 , 浜野孝雄 , 森田哲二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-353922
公開番号（公開出願番号）：特開2004-182681
出願日： 2002年12月05日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】トリオルガノモノハイドロシランから簡便に且つ効率よくトリオルガノモノクロロシランを製造できる新しい工業的方法を開発する。【解決手段】次の一般式(I)(R1)(R2)(R3)SiH (I)〔式中、R1、R2およびR3は、互いに同一もしくは相異なる炭素数1〜10の炭化水素基を示す。但しR1、R2およびR3はすべて同時にメチル基であることはない〕で表されるトリオルガノモノハイドロシラン化合物を、遷移金属、その塩、その酸化物またはその錯体よりなる触媒の存在下に適当な濃度の塩酸と反応させ、次の一般式(II)(R1)(R2)(R3)SiCl (II)〔式中、R1、R2およびR3は、それぞれ前記の一般式(I)におけると同じ意味を持つ〕で表されるトリオルガノモノクロロシランを生成することを特徴とする、一般式(II)のトリオルガノモノクロロシランの製造方法が提供された。

請求項（抜粋）：

次の一般式(I) (R1)(R2)(R3)SiH (I) 〔式中、R1、R2およびR3は、互いに同一もしくは相異なる炭素数1〜10の炭化水素基を示す。但しR1、R2およびR3はすべて同時にメチル基であることはない〕で表されるトリオルガノモノハイドロシラン化合物を、遷移金属、その塩、その酸化物またはその錯体よりなる触媒の存在下に塩酸と反応させ、次の一般式(II) (R1)(R2)(R3)SiCl (II) 〔式中、R1、R2およびR3は、それぞれ前記の一般式(I)におけると同じ意味を持つ〕で表されるトリオルガノモノクロロシランを生成することを特徴とする、一般式(II)のトリオルガノモノクロロシランの製造方法。

IPC (1件)：

C07F7/12

FI (1件)：

C07F7/12 M

Fターム (21件)：

4H039CA52 , 4H039CD20 , 4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VQ02 , 4H049VQ12 , 4H049VR23 , 4H049VR31 , 4H049VS02 , 4H049VT06 , 4H049VT09 , 4H049VT11 , 4H049VT15 , 4H049VT16 , 4H049VT17 , 4H049VT22 , 4H049VT25 , 4H049VT30 , 4H049VU20 , 4H049VU22 , 4H049VU36

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭56-092895
特開昭63-316791

審査官引用 (2件)

特開昭56-092895
特開昭63-316791

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