特許
J-GLOBAL ID:200903004929781563
光吸収性反射防止ガラス基体とその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-183043
公開番号(公開出願番号):特開2002-008566
出願日: 2000年06月19日
公開日(公表日): 2002年01月11日
要約:
【要約】【課題】陰極線管作製工程中の熱処理を施しても、熱処理前後で表面抵抗値の変化が少ない光吸収性反射防止ガラス基体とその製造方法の提供。【解決手段】陰極線管の表示面を構成するガラス基体上に、1〜15nmの、シリコン酸化物膜、シリコン酸窒化物膜またはシリコン窒化物膜と、5〜70nmの光吸収膜と、50〜300nmの低屈折率膜とがこの順に設けられてなる光吸収性反射防止ガラス基体。
請求項(抜粋):
陰極線管の表示面を構成するガラス基体の観察者側表面に、該ガラス基体からのアルカリ成分の拡散を防止する膜として膜厚が1〜15nmである、シリコン酸化物膜、シリコン酸窒化物膜またはシリコン窒化物膜が設けられ、その上に膜厚が5〜70nmである光吸収膜が1層以上設けられ、最外層に膜厚が50〜300nmである低屈折率膜が設けられてなる光吸収性反射防止ガラス基体。
IPC (7件):
H01J 29/88
, C03C 17/34
, C03C 17/36
, C23C 14/06
, C23C 14/34
, G02B 1/11
, H01J 9/20
FI (7件):
H01J 29/88
, C03C 17/34 Z
, C03C 17/36
, C23C 14/06 N
, C23C 14/34 N
, H01J 9/20 A
, G02B 1/10 A
Fターム (39件):
2K009AA05
, 2K009AA06
, 2K009AA07
, 2K009AA08
, 2K009AA12
, 2K009BB02
, 2K009CC02
, 2K009CC03
, 2K009DD04
, 4G059AA07
, 4G059AC04
, 4G059AC11
, 4G059DA09
, 4G059EA05
, 4G059EA12
, 4G059EA13
, 4G059EB04
, 4G059GA02
, 4G059GA04
, 4G059GA12
, 4G059GA14
, 4K029AA09
, 4K029BA46
, 4K029BA58
, 4K029BA60
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA04
, 4K029GA01
, 5C028AA01
, 5C028AA07
, 5C032AA02
, 5C032DD02
, 5C032DE01
, 5C032DE02
, 5C032DE03
, 5C032DF05
, 5C032DG01
, 5C032DG02
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