特許

J-GLOBAL ID：200903004939250043

半導体フォトリソグラフィ工程の現像液供給システム

発明者： 朴 盛 鉉 ,  金 成 一 ,  李 貞 圭
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-109665
公開番号（公開出願番号）：特開平10-106944
出願日： 1997年04月25日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】 現像液の供給時に、現像液内に溶存する微少気体を除去した後で供給するようにする半導体フォトリソグラフィ工程の現像液供給システムに関する。【解決手段】 本発明の半導体フォトリソグラフィ工程の現像液供給システムは、所定量の現像液を貯蔵する複数個の供給タンク16と、この供給タンクに連結された複数個の第1連結管24とこの第1連結管を集めて連結された第2連結管48とこの第2連結管から分岐される複数個の第3連結管50とからなる現像液供給ライン60と、第3連結管に設置され、ウェーハ上に現像液を噴射するノズル22と、第2連結管に設置され、現像液から溶存気体を除去する脱気装置52と、前記複数個の第3連結管に通路を開閉するように設置され、第3連結管の中のいずれか1つの第3連結管を通じて、1つの工程チャンバーのみに現像液が選択的に供給されるようにする遮断バルブ58bとを具備することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

所定量の現像液を貯蔵する複数個の供給タンクと、この複数個の供給タンクにそれぞれ連結された複数個の第1連結管とこの複数個の第1連結管が1つの通路に集まるように連結された第2連結管とこの第2連結管から分岐される複数個の第3連結管とからなる現像液供給ラインと、この現像液供給ラインの前記第3連結管にそれぞれ設置され、工程チャンバー内部のウェーハ上に現像液を噴射するノズルと、前記現像液供給ラインの前記第2連結管に設置され、内部に流れる現像液から溶存気体を除去する脱気装置と、前記複数個の第3連結管にそれぞれ設置され、前記複数個の第3連結管の中のいずれか1つの第3連結管を通じて、1つの工程チャンバーのみに現像液が選択的に供給されるように通路を開閉する遮断バルブとを具備することを特徴とする半導体フォトリソグラフィ工程の現像液供給システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (4件)：

H01L 21/30 569 C ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 A ,  H01L 21/30 569 F