特許
J-GLOBAL ID:200903004965315102

放射線架橋可能な混合物および高温で安定なレリーフ構造の形成に使用する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田代 烝治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-126260
公開番号(公開出願番号):特開平6-051510
出願日: 1993年05月27日
公開日(公表日): 1994年02月25日
要約:
【要約】【目的】 可溶性の先駆物質或は、例えばポリアミド、ポリイソインドールキナゾリンジオン、ポリアロイレンベンズイミダゾールおよび他のヘテロ環式重合体を基本としたフォトレジストを与えることにより、簡単に再生でき更に、望ましい曲げ強度や座屈抵抗を有するレリーフ構造を与えること。【構成】(I)高温で安定なヘテロ環式重合体の、少なくとも1個のカルボキシル基を有する、極性有機溶媒に可溶な重合体先駆物質、(II) 共重合可能なエチレン性不飽和の三級スルフォニウム塩、(III)光開始剤または光開始剤組成物および(IV) 少なくとも1種の極性の中性有機溶媒。から基本的に構成され、高温で安定なレリーフ構造の形成に適した、放射線架橋可能な混合物。
請求項(抜粋):
(I)高温において安定で極性有機溶媒に可溶な、少なくとも1個のカルボキシル基を有する、ヘテロ環式重合体の重合体先駆物質、(II)少なくとも1種の共重合可能なエチレン性不飽和の三級スルフォニウム塩、(III)少なくとも1種の光開始剤または光開始剤組成物および(IV)少なくとも1種の極性の中性有機溶媒から基本的に構成されることを特徴とする放射線の作用により架橋される混合物。
IPC (4件):
G03F 7/027 514 ,  C08G 73/10 NTF ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027

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