特許

J-GLOBAL ID：200903004975281885

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 神田 博美 ,  佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-235796
公開番号（公開出願番号）：特開2006-023692
出願日： 2004年08月13日
公開日（公表日）： 2006年01月26日
要約：

【課題】経時保存後にパターン形成に用いた場合でも、現像欠陥の発生が著しく抑制され、且つ液浸液追随性に優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。【解決手段】(A)分子鎖の少なくとも一方の末端に、少なくとも一つのハロゲン原子を有した特定の基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)分子鎖の少なくとも一方の末端に下記構造式(1)で表される基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (11件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41

引用特許：

出願人引用 (1件)

• レジスト用(共)重合体およびレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-392856   出願人：三菱レイヨン株式会社