特許

J-GLOBAL ID：200903004979197919

光学素子及びその製造方法

発明者： 小笹 直人 ,  小林 高広 ,  鈴木 健二 ,  藤森 二郎
出願人/特許権者： パイオニア株式会社 ,  パイオニアビデオ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-338061
公開番号（公開出願番号）：特開平9-159811
出願日： 1995年12月01日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 光透過性基板の機械特性の劣化がなく、またドライ光硬化性フィルム中に気泡の残存がなくて品質が安定し、かつ簡易な設備により効率良く製造可能な光学素子を提供する。【解決手段】 光透過性基板と、光透過性基板上に積層された透光性のドライ光硬化性フィルムとからなり、ドライ光硬化性フィルムの表面には凹凸パターンが形成されていることからなる光学素子であって、ドライ光硬化性フィルムは、室温未硬化状態での粘度が特定の範囲にあり、その状態での厚さが特定の範囲にあり、特定の範囲の指定した特性を有する。さらに、光学素子の製造方法において、ドライ光硬化性フィルムを減圧状態でローラーにより加熱、加圧して凹凸パターンを形成する工程と、ドライ光硬化性フィルムに光透過性基板を貼り合わせる工程と、前記ドライ光硬化性フィルムに紫外線を照射して硬化させる工程と、成形型をドライ光硬化性フィルムから分離する工程とからなる。

請求項（抜粋）：

光透過性基板と、前記光透過性基板上に積層された透光性のドライ光硬化性フィルムとからなり、前記ドライ光硬化性フィルムは、室温未硬化状態での粘度が3,500〜400,000ポイズであるとともに未硬化状態での厚さが30〜100μmであり、下記式(1)、(2)を満足し、前記ドライ光硬化性フィルムの表面には凹凸パターンが形成されていることを特徴とする光学素子。0.4≦Δx/x(1)0.4≧Δx′′/Δx′(2)[上記式中xは前記ドライ光硬化性フィルムの厚さ、Δxは一対の円板の間に前記ドライ光硬化性フィルムを入れ80 ゚Cで50,000dyne/cm2 の一定の圧力を加えた時の前記ドライ光硬化性フィルムの厚さの変化量、Δx′は一対の円板の間にドライ光硬化性フィルムを入れ80 ゚Cで5000dyneの一定の力により片方の円板だけをねじった時の変形量、Δx′′は5000dyneの力を開放したとき戻り量。]

IPC (4件)：

G02B 5/04 ,  B29C 59/02 ,  G02B 3/08 ,  G03B 21/62

FI (4件)：

G02B 5/04 A ,  B29C 59/02 Z ,  G02B 3/08 ,  G03B 21/62