特許
J-GLOBAL ID：200903004980423620
半導体装置の製造管理システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-122240
公開番号（公開出願番号）：特開平6-333791
出願日： 1993年05月25日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【目的】検査工程の測定結果を自動的に良否判定し、不良が発生した場合あらかじめ登録されている解析手順に従って原因解析を自動的に行ない解析工数の大幅削減を図ると伴に定常的な歩留安定を図る。【構成】半導体装置の検査工程の測定結果を収集し、あらかじめ登録されている規格・判定方法に従って測定値の良否判定を行ない、不良が発生した場合その不良内容・不良データによりあらかじめ登録されている解析手順を自動実行し、原因となる設備又はロットを確定し、確定した原因により新条件を算出して適用したり、設備・ロットの作業を制御(ストップ)する手段を有している。
請求項（抜粋）：
半導体装置の製造工程での製造条件、及び実際の処理で実行した条件を工程毎に収集・蓄積する手段と、検査工程の測定値を含む測定項目毎の測定結果を収集・蓄積する手段と、前記検査工程の測定項目毎の測定値の良否を判定する規格と判定方法を登録する手段と、前記検査工程で測定された測定項目毎の測定値を登録されている規格及び判定方法に従って判定し、判定の結果不良が発生した場合それを表示する手段と、前記検査工程で不良が発生した場合、自動的に解析を行う解析手順及び解析データを登録する手段と、登録された解析データ及び解析手順に基づいて解析を自動実行し、原因設備・原因工程・原因ロットの限定を行う手段と、特定設備が原因の場合、前記原因設備の条件修正による対応の可能性を判断し、可能な場合は前記原因設備で作業する後続ロットの条件を修正する手段と、前記原因設備の条件修正による対応が不可能な場合は前記原因設備での作業をストップする手段と、特定ロットが原因の場合、原因ロットの後工程での条件の修正による対応の可能性を判断し、可能な場合は後工程の条件を修正する手段と、 前記原因ロットの条件修正での対応が不可能な場合は原因ロットの後工程の作業をストップする手段とを有する半導体装置の製造管理システム。
IPC (2件)：
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