特許

J-GLOBAL ID：200903005001568652

熱処理装置

発明者： 加賀爪 哲 ,  戸澤 孝 ,  白岩 裕嗣 ,  鈴木 健生
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社 ,  株式会社安川電機
代理人 (1件)： 畝本 正一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-076295
公開番号（公開出願番号）：特開平5-243170
出願日： 1992年02月26日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：

【要約】【目的】 ロードロック室内におけるエレベータの容積を低減させるとともに、被加熱処理体に対する塵埃の影響を抑制し、ひいては処理時間の短縮化を図る。【構成】 被加熱処理体(ウエハ2)を加熱処理するプロセスチューブ(4)に連結したロードロック室(8)を備えた熱処理装置であって、前記プロセスチューブで処理すべき前記被加熱処理体を載置するとともに前記プロセスチューブの開口部を閉塞するキャップ(26)を備えた可動支持体(48)と、前記ロードロック室の排気部(排気孔44)側の内壁面に隣接して立設されて前記可動支持体を摺動可能に支持する垂直ベース(46)と、この垂直ベースの背面側に設置されて前記可動支持体を上下方向に摺動させる駆動機構(50)とを備えたものである。

請求項（抜粋）：

被加熱処理体を加熱処理すべきプロセスチューブに連結されて前記被加熱処理体を収容して真空に保持し、又は任意のガス雰囲気に保持するロードロック室を備えた熱処理装置であって、前記プロセスチューブで処理すべき前記被加熱処理体を載置するとともに前記プロセスチューブの開口部を閉塞するキャップを備えた可動支持体と、前記ロードロック室の排気部側の内壁面に隣接して立設されて前記可動支持体を摺動可能に支持する垂直ベースと、この垂直ベースの背面側に設置されて前記可動支持体を上下方向に摺動させる駆動機構と、を備えたことを特徴とする熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/22 ,  H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-154118