特許
J-GLOBAL ID：200903005007909516
シリカ被覆蛍光体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-116500
公開番号（公開出願番号）：特開平6-299146
出願日： 1993年04月20日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：
【要約】【目的】 蛍光体自体の劣化を防止しつつ遮水性に優れるシリカコーティング膜を形成できて輝度や発光寿命、ないしその維持性に優れるシリカ被覆蛍光体が得られる製造方法を開発すること。【構成】 テトラメチルシランガス(51)又は/及び酸化ガス(1)をプラズマCVD方式によりプラズマ化(2)したのち、それを蛍光体粉末(4)上に供給してシリカからなるコーティング膜を形成するシリカ被覆蛍光体の製造方法。【効果】 水酸基不含有のシリカコーティング膜を形成できて水酸基除去用の後処理を省略でき、シリカコーティング膜の成膜速度に優れて被覆蛍光体を効率よく製造できる。またピンホール等の欠陥部の少ないシリカ膜を形成でき、表面に凹凸のある蛍光体もカバレッジ性よく滑らかな表面状態に被覆でき被覆状態が良好なシリカ被覆蛍光体が得られる。
請求項（抜粋）：
テトラメチルシランガス又は/及び酸化ガスをプラズマCVD方式によりプラズマ化したのち、それを蛍光体粉末上に供給してシリカからなるコーティング膜を形成することを特徴とするシリカ被覆蛍光体の製造方法。
IPC (5件)：
C09K 11/02
, C09K 11/56 CPC
, C23C 16/40
, H01J 9/22
, H01J 61/42
