特許

J-GLOBAL ID：200903005012595791

投影露光装置

発明者： 谷口 哲夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-046905
公開番号（公開出願番号）：特開平5-251299
出願日： 1992年03月04日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：

【要約】【目的】 レチクルに対する照明条件を変更しても、常に高精度の結像特性のもとでウエハに対する露光を行う。【構成】 レチクルRの種類やそのパターンの微細度に対応して、レチクルRに対する照明条件(σ値、輪帯照明、複数傾斜照明等)を変更したとき、この変更された照明条件のもとで投影光学系の結像特性の変化量が所定の許容限界値以下となるまでの間、ウエハWに対する露光動作を停止する。

請求項（抜粋）：

光源からの照明光をほぼ均一な強度分布に成形するとともに、該均一な照明光を微細パターンを有するマスクに照射する照明光学系と、前記マスクのパターンの像を感光基板に結像投影する投影光学系と、前記照明光の入射による前記投影光学系の熱蓄積量に対応した情報を検出する検出手段とを備えた投影露光装置において、前記検出手段からの熱蓄積量に対応した情報と予め定められた基準値とに基づいて、前記感光基板に対する露光動作の開始または停止を制御する露光制御手段と;前記マスクまたはそのパターンに対応して前記マスクに対する照明条件を変更する照明条件変更手段と;該照明条件を変更したときに、前記基準値を前記変更された照明条件に見合った値に設定する手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 S

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-074024
  
• 特開平2-106917
  
• 特開平2-185016
  
• 特開平2-090510