特許
J-GLOBAL ID：200903005026246978
真空ポンプ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
社本 一夫 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-030826
公開番号（公開出願番号）：特開2002-310092
出願日： 2002年02月07日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：
【要約】【課題】 大気圧から約10-4mbarの高真空に至るまでの全圧力範囲を包含する真空ポンプであって、ポンプが1つの部分からなり、コンパクトな構造を有し、低コストであり、且つ占有床面積の小さい前記真空ポンプを提供する。【解決手段】 本発明は2系統ガス摩擦ポンプ(6)および(7)と、その下流側の1台のポンプ(8)とからなる真空ポンプを記載する。2系統ガス摩擦ポンプのガス流れはポンプの内部で結合要素(26)により集められ、その下流側のポンプ(8)により大気圧まで圧縮される。ガス摩擦ポンプが2系統のホルベック・ポンプとして形成され、およびその下流側のポンプがサイド・チャネル・ポンプとして形成されていることが有利である。ポンプのコンパクト構造は、さらに、サイド・チャネル・ポンプのステータ要素(15)が分割されていないディスクからなることにより補足される。
請求項（抜粋）：
2台の単段または多段ガス摩擦ポンプ(6)および(7)と、その下流側の1台の多段ポンプ(8)とからなる真空ポンプにおいて、両方のガス摩擦ポンプが流れ方向に並列配置され、これにより、吸い込まれたガス流れが吸込領域(22)において2つの分流に分割され、これらの各分流が付属のガス摩擦ポンプにより吸込領域(22)からそれぞれの吐出領域(23)ないし(24)に供給され、およびそれに続いて両方のガス流れが結合要素(26)を介して1つの吐出室(25)に集められることと、および前記吐出室が、それの下流側に設けられたポンプ(8)の吸込室(27)と、導通路(28)を介して結合され、これにより、前記下流側ポンプがガスをさらに圧縮することと、を特徴とする真空ポンプ。
IPC (2件)：
FI (6件)：
F04D 19/04 G
, F04D 19/04 C
, F04D 29/54 B
, F04D 29/54 C
, F04D 29/54 D
, F04D 29/54 F
3H031DA01
, 3H031DA05
, 3H031DA07
, 3H031DA09
, 3H031EA00
, 3H031FA01
, 3H031FA03
, 3H031FA36
, 3H034AA01
, 3H034AA02
, 3H034AA12
, 3H034BB01
, 3H034BB04
, 3H034BB08
, 3H034BB09
, 3H034BB11
, 3H034CC01
, 3H034CC03
, 3H034CC07
, 3H034DD01
, 3H034DD02
, 3H034DD05
, 3H034DD12
, 3H034DD13
, 3H034DD20
, 3H034DD22
, 3H034DD26
, 3H034DD27
, 3H034DD28
, 3H034DD30
, 3H034EE05
, 3H034EE12
, 3H034EE18
