特許
J-GLOBAL ID：200903005027916420
光学素子の製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大西 正悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-241248
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064024
出願日： 1999年08月27日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：
【要約】【課題】 従来よりも高い透過率を有する光学素子、或いは使用波長が300nm以下である光学系においても使用可能な紫外線用光学素子をプレス成形により製造することが可能な光学素子の製造装置を提供する。【解決手段】 上下型21,22及び胴型23の材料が炭化珪素であり、且つ上下型21,22の成形面21a,22a及び胴型23の内面に製造しようとする光学素子の透過率を低下させる要因となる不純物(例えばLi,Na,Mg,Al,K,Ca,Ti,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu)の含有濃度が所定値(例えば20ppb)以下である炭化珪素層25,26,27がコーティングされている。
請求項（抜粋）：
成形面同士を対向させた一対の上下型が胴型内に配設され、前記上下型の間に加熱軟化した光学素子材料を挟んで押圧し、前記光学素子材料に前記成形面の形状を転写させて所要形状の光学素子を得る光学素子の製造装置において、前記上下型及び前記胴型の材料が炭化珪素であり、且つ前記上下型の前記成形面及び前記胴型の内面に前記光学素子の透過率を低下させる不純物の含有濃度が所定値以下である炭化珪素層がコーティングされていることを特徴とする光学素子の製造装置。
IPC (3件)：
C03B 11/00
, C03B 11/08
, C03B 40/00
C03B 11/00 N
, C03B 11/08
, C03B 40/00
