特許
J-GLOBAL ID：200903005036356348
光導波路の作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-261708
公開番号（公開出願番号）：特開平6-109936
出願日： 1992年09月30日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：
【要約】【目的】 光導波路の作製においてポリシロキサンの加工を容易にする。【構成】 ポリシロキサンの繰り返し単位【化5】式3のポリシロキサンAと式3,4の1:5共重合ポリシロキサンBを基板1上にスピンコートで製膜して下部クラッド層とコア層となるスピンコート膜2とし、空気中で265nm付近のUV光4をパターン付きマスク3ごしに照射し、膜2を有機溶剤(クロロベンゼン)5でエッチングし、溶解度変化部2aを残し、コアとする。ポリシロキサンAの上部クラッド層を設ける。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)【化1】〔式中、R1 ,R2 は同一または異なり、Cn Y2n+1(Yは重水素もしくはハロゲン、nは5以下の正の整数を表す)で表される重水素化またはハロゲン化アルキル基、あるいはC6 Y6 (Yは重水素もしくはハロゲンを表す)で表される重水素化またはハロゲン化フェニル基〕で表される繰り返し単位を有するハロゲンおよび/または重水素を含むポリシロキサン、下記一般式(2)【化2】〔式中、R1 ,R2 は同一または異なり、Cn Y2n+1(Yは重水素もしくはハロゲン、nは5以下の正の整数を表す)で表される重水素化またはハロゲン化アルキル基、あるいはC6 Y6 (Yは重水素もしくはハロゲンを表す)で表される重水素化またはハロゲン化フェニル基〕で表される繰り返し単位を有するハロゲンおよび/または重水素を含むポリシロキサン、一般式(1)および(2)で表される繰り返し単位の共重合体であるハロゲンおよび/または重水素を含むポリシロキサン、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれたポリマーの所望の部分に酸素存在下で光を照射し、溶媒に対する溶解度を変化させ、所望のパターンをこの溶解度の差を利用して作製し、このパターン部を光導波路のコアあるいはクラッドとしたことを特徴とする光導波路の作製方法。
IPC (3件)：
G02B 6/12
, C08G 77/04
, C08L 83/04
