特許
J-GLOBAL ID：200903005036382519
露光処理システム装置,荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-218178
公開番号（公開出願番号）：特開平5-036594
出願日： 1991年08月29日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：
【要約】【目的】 本発明は露光処理システム装置の改善に関し、LSIの設計データを一律に可変図形露光データのみに変換することなく、また、ブロックパターンの選択に際して露光処理系のデータ照合処理に依存することなく、該露光処理系とLSI設計処理系との間において、ブロックパターンの分割/選択に関して共通する媒介データを持ち、該媒介データに基づいて効率良く、かつ、高速にブロック露光処理をすることを目的とする。【構成】 半導体集積回路LSIの設計データDDに基づいてLSI設計処理系100によりブロック露光処理に必要な露光データPDの自動作成処理をし、前記露光データPDに基づいて荷電粒子ビーム露光処理系 101により被露光対象17にブロックパターン露光処理をすることを含み構成し、前記LSI設計処理系 100がブロック露光データRPDを含む露光データPDの自動作成処理をし、前記荷電粒子ビーム露光処理系 101に複数のブロックパターンB1, B2...Bnに基づくビーム整形手段13が設けられることを含み構成する。
請求項（抜粋）：
半導体集積回路(LSI)の設計データ(DD)に基づいてブロック露光処理に必要な露光データ(PD)の自動作成処理をするLSI設計処理系( 100)と、前記露光データ(PD)に基づいて被露光対象(17)にブロックパターン露光処理をする荷電粒子ビーム露光処理系( 101)とを具備し、前記LSI設計処理系( 100)が半導体集積回路(LSI)の設計パターン(PP)から抽出した複数のブロックパターン(B1, B2...Bn)に基づいてブロック露光データ(RPD)を含む露光データ(PD)の自動作成処理をすることを特徴とする露光処理システム装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G06F 15/60 370
, H01J 37/30
H01L 21/30 341 J
, H01L 21/30 341 Q
