特許
J-GLOBAL ID:200903005042425408

線形の低密度エチレン共重合体を製造する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 湯浅 恭三 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-216722
公開番号(公開出願番号):特開平6-009723
出願日: 1991年03月16日
公開日(公表日): 1994年01月18日
要約:
【要約】【目的】 分離装置の下流にて重合体が装置を詰まらせる可能性を解消し、重合体の収率を増大させる略線形の共重合体を製造する方法。【構成】 エチレンと、2以上の炭素原子を含む少量の1-オレフィンとの略線形の共重合体を製造する方法にして、前記エチレン及び1-オレフィンを共重合反応領域内で高温及び高圧にてチーグラ触媒に接触させる段階と、重合体及び未反応のモノマーを含む重合反応混合体を反応領域より低い圧力10にて作用する高圧の分離領域(HPS)内で新たに供給されるエチレンと接触させ、分離領域の成分が大部分の重合体を含む稠密な相と大部分の未反応のモノマーを含む軽い相とに分離されるようにする段階と、前記2つの相をHPSから別個に取り出す段階とを備えることを特徴とする方法である。稠密な相を含む共重合体をその後処理して純粋な重合体生成物を得、軽い相の未反応モノマーの少なくとも一部が、ある中間処理又は循環を行い、又は行わずに、全体として反応器内で再使用される。
請求項(抜粋):
エチレンと、2以上の炭素原子を含む少量の1-オレフィンとの略線形の共重合体を製造する方法にして、前記エチレン及び1-オレフィンを重合反応領域内で高温及び高圧にてチーグラ触媒に接触させる段階と、重合体及び未反応のモノマーを含む重合反応混合体を、反応領域より低い圧力にて作用する高圧の分離領域(HPS)内で新たに供給されるエチレンと接触させ、分離領域の成分が大部分の重合体を含む稠密な相と大部分の未反応のモノマーを含む軽い相とに分離されるようにする段階と、前記2つの相をHPSから別個に取り出す段階と、共重合体生成物を稠密な相から回収する段階とを備えることを特徴とする方法。

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