特許
J-GLOBAL ID：200903005056160407
パターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-251017
公開番号（公開出願番号）：特開平6-102410
出願日： 1992年09月21日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】 本発明は液晶ディスプレイのカラーフィルター等の製造に用いられるパターン形成方法を提供するものである。【構成】 支持体と剥離層とパターン形成材料層からなる転写体の前記パターニング材料層にエキシマレーザ光を照射してパターンを形成し、粘接着層を有する被転写基板上へパターン形成された前記パターン形成材料層を転写する工程を有するパターン形成方法である。【効果】 湿式現像処理を行うこと無く、精度の良いパターン形成ができる。転写体上でパターン形成することにより転写前にパターン形成の検査を行うことができ、被転写基板が無駄にならない。パターン形成材料層を平坦な面に形成することができ塗膜形成が容易である。また、パターン形成材料が感光性である必要がなく、耐熱性、耐溶剤性に優れた広範な材料を用いることができる。
請求項（抜粋）：
支持体と剥離層とパターン形成材料層からなる転写体の前記パターン形成材料層にエキシマレーザ光を照射してパターンを形成する工程と、接着層を介して被転写基板上へパターン形成された前記パターン形成材料層を転写する工程からなることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101
, B41M 5/26
