特許
J-GLOBAL ID：200903005057099418
パターン描画方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-058041
公開番号（公開出願番号）：特開平9-251940
出願日： 1996年03月14日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：
【要約】【課題】 本発明は周期的なノイズに起因するビームの攪乱を平均化により減少させ、ビームを用いたパターン形成の精度を向上させることを目的とする。【解決手段】 多重描画より精度の向上を図る際に、重ね書きの各回の照射量・最大ショットサイズを変化させることにより、描画速度を変化させる。具体的には、荷電粒子ビーム描画装置によるパターン描画方法が、所望のパターンを描画するために前記荷電粒子ビームの照射量を入力するステップと;前記荷電粒子ビームを照射する頻度としてのショットサイクルを決定するステップと;前記荷電粒子ビームを1回で照射する広がりとしての最大ショットサイズを設定するステップと;前記所定のパターンについて2回以上の複数回の重ね書きにより前記荷電ビームを照射するために、それぞれの回毎に異なる描画速度となるように前記所定のパターンについて最適な描画条件を設定するステップと;設定された各回毎の所定の描画速度により複数回にわたり前記所定のパターンを描画するステップと;を備えている。
請求項（抜粋）：
ビームを照射して試料上に所望のパターンを描画するパターン描画方法であって、前記所望のパターンを描画するために前記ビームの照射量を入力するステップと;前記ビームを照射する頻度としてのショットサイクルを決定するステップと;前記ビームを1回で照射する広がりとしての最大ショットサイズを設定するステップと;前記所定パターンについて前記ビームを照射することを2回以上の複数回の重ね書きにより行なうために、それぞれの回毎に異なる描画速度となるように前記所定のパターンの各回の描画条件を設定するステップと;設定された各回毎の所定の描画速度により複数回にわたり前記所定のパターンを描画するステップと;を含むパターン描画方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 541 J
, G03F 1/08 A
, H01L 21/30 518
, H01L 21/30 541 E
