特許
J-GLOBAL ID：200903005059297667
X線マスク構造体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-219207
公開番号（公開出願番号）：特開平5-041347
出願日： 1991年08月05日
公開日（公表日）： 1993年02月19日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 本発明は反りや歪みがなく、高精度なリソグラフィ-が可能になるX線リソグラフィ-用マスク構造体の提供を目的とするものである。【構成】 本発明のX線マスク構造体は、X線透過膜保持枠、X線透過膜、X線吸収体および保持枠補強剤とからなるX線マスク構造体において、シリコン単結晶製のX線透過膜保持枠とシリコン単結晶の補強体とを、酸化シリコン膜を介して接合してなることを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
X線透過膜保持枠とX線透過膜、X線吸収体および保持枠を補強する補強体とからなるX線マスク構造体において、シリコン単結晶製のX線透過膜保持枠とシリコン単結晶製の補強体とを、酸化シリコン膜を介して接合することを特徴とするX線マスク構造体。
IPC (2件)：
引用特許：
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