特許
J-GLOBAL ID:200903005069333645

プリスチン アルキルシロキサン類およびそれらの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-181153
公開番号(公開出願番号):特開平7-145242
出願日: 1994年08月02日
公開日(公表日): 1995年06月06日
要約:
【要約】【目的】 プリスチン アルキルシロキサン類およひそれらの製法を提供する。【構成】 本発明は、アルキルシロキサン類に関し、これは99.9%のアルキルシロキサンを含んでなりそして10ppm 未満の-SiH;10ppm 未満のCH2 =CH-および1ppm 未満の白金を含んでなる。本発明のプリスチン アルキルシロキサンは、-SiH含有ポリシロキサンを、無水条件下、担持された白金触媒および酸素の存在下、オレフィン化合物と反応させることによって製造される。
請求項(抜粋):
次式(i)〜(iv):【化1】【化2】【化3】【化4】(上記各式中、各RはC13 アルキルおよびフェニルから独立に選ばれ;R1は少なくとも4個の炭素原子を有するアルキル基であり;各R2 はRおよびR1から独立に選ばれる、但し各分子中の少なくとも1個のR2 基はR1 基である;sは少なくとも1の値を有し、tは少なくとも1の値を有し、vは少なくとも1の値を有し、xは3〜8の値を有し;yは少なくとも1の値を有し;そしてzは少なくとも1の値を有する、但しy+zは3〜8の値を有する)を有するアルキルシロキサンおよび(v)それらの混合物から成る群から選ばれるプリスチン アルキルシロキサンであって、該プリスチン アルキルシロキサンは99.9%より大のアルキルシロキサンでありそして10ppm 未満の-SiH、10ppm 未満のCH2 =CH-および1ppm 未満の白金から成る、前記プリスチン アルキルシロキサン。
IPC (2件):
C08G 77/38 NUF ,  C08G 77/06 NUB

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