特許

J-GLOBAL ID：200903005073961421

試料処理装置

発明者： パトリック、ジャコール
出願人/特許権者： ソシエテ、プロラボ
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-327755
公開番号（公開出願番号）：特開平8-089822
出願日： 1994年12月28日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 マイクロ波照射キャビティ内に配置された4つのフラスコ内に収容された試料を湿潤媒体内で同時に処理するための試料処理装置を提供する。【構成】 各反射器131〜134は、フラスコ141〜144の外側表面の一部を取り囲む円筒形の表面によって形成され、前記一部は、四分の一乃至二分の一の範囲内にあり、前記反射器131〜134は、照射キャビティ100の軸線Xを中心として対称に対をなして配置され、これらの反射器131〜134は、その大部分が、軸線X及び対応するフラスコの2つの軸線を含む平面(P1 、P2 )の両側に配置され、四つの反射器131〜134の凹状の側部が交互方向に向いている。

請求項（抜粋）：

軸線X1 、X2 、X3 、及びX4 を夫々有する四つのフラスコ(141、142、143、144)内に収容された四つの試料を湿潤媒体内で同時に処理するための装置であって、中央対称軸線Xを持つ照射キャビティ(100)の内側にマイクロ波を放射するための手段(200)を有し、照射キャビティ(100)の頂壁(101)には四つの開口部(151、152、153、154)が設けられ、これらの開口部を通してフラスコ(141、142、143、144)が軸線Xと平行に前記キャビティの内側に挿入され、前記開口部は、軸線Xを中心として対称な向き合った対をなして配置され、更に、四つのマイクロ波反射器(131、132、133、134)が照射キャビティ(100)の内側に配置されている装置において、各反射器(131、132、133、134)は、フラスコ(141、142、143、144)の外側表面の一部を取り囲む円筒形の表面によって形成され、前記一部は、フラスコの外側表面の四分の一乃至二分の一であり、前記反射器(131、132、133、134)は、軸線Xを中心として対称に対をなして配置されており、大部分が、軸線X及び対応するフラスコの二つの軸線を含む平面(P1 、P2 )の両側にあり、四つの反射器(131、132、133、134)の凹状の側が交互方向に向いていることを特徴とする試料処理装置。

IPC (2件)：

B01L 7/00 ,  H05B 6/64