特許
J-GLOBAL ID:200903005081695781
多重ホログラフィ要素の製造システムおよび方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-250547
公開番号(公開出願番号):特開平6-318029
出願日: 1993年10月06日
公開日(公表日): 1994年11月15日
要約:
【要約】【目的】 高精度かつ高効率の多重ホログラフィ要素を製造する。【構成】 この方法は、マスタ多重ホログラフィ要素に亙って所定の屈折率パターンを生成する吸収格子パターンを有するマスタ多重ホログラフィ要素を形成する工程と、フォトポリマー層をマスタホログラフィ要素に被覆する工程と、マスタホログラフィ要素を透過してフォトポリマー層に記録光を指向させる工程とを具備している。マスタホログラフィ要素の吸収格子パターンは、記録光を調整し、調整された記録光は、フォトポリマー層に亙って所定の屈折率パターンを生成するモノマーパターンを形成するためにフォトポリマーのモノマーを生じる。この方法は、さらに、多重ホログラフィ要素の複製をそこに形成するために、フォトポリマー層のモノマーをモノマーパターンに定着させる工程と、マスタホログラフィ要素からフォトポリマー層を取り除く工程とを具備している。
請求項(抜粋):
多重ホログラフィ要素の製造方法であって、マスタ多重ホログラフィ要素に亙る所定の屈折率パターンを生成する吸収格子パターンを有するマスタ多重ホログラフィ要素を形成し、マスタ多重ホログラフィ要素をフォトポリマー層で被覆し、記録光をマスタ多重ホログラフィ要素を透過させてフォトポリマー層に指向させ、マスタ多重ホログラフィ要素の吸収格子パターンが記録光の振幅を調整し、調整された記録光が、前記フォトポリマー層に亙って所定の屈折率パターンを生成するモノマーパターン内に、フォトポリマー層のモノマーを形成し、多重ホログラフィ要素の複製を形成するために前記モノマーパターン内にフォトポリマー層のモノマーを定着し、マスタ多重ホログラフィ要素からフォトポリマー層を取り除く方法。
IPC (2件):
引用特許:
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