特許
J-GLOBAL ID：200903005085943593
有機EL素子およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-234024
公開番号（公開出願番号）：特開2000-133447
出願日： 1999年08月20日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：
【要約】【課題】 有機層にダメージを与えることなく製造でき、ダークスポットの発生を抑え、初期駆動電圧、駆動開始電圧の低い、高効率、長寿命の有機EL素子およびその製造方法を提供する。【解決手段】 基板と、この基板上にホール注入電極と電子注入電極とを有し、これらの電極間に少なくとも発光機能に関与する有機層を有する有機EL素子であって、前記電子注入電極は、金属または少なくとも金属の酸化物あるいはハロゲン化物を有し、前記有機層と電子注入電極との間にポルフィリン系化合物またはナフタセン系化合物を含有する緩衝層を有する構成の有機EL素子とした。
請求項（抜粋）：
基板と、この基板上にホール注入電極と電子注入電極とを有し、これらの電極間に少なくとも発光機能に関与する有機層を有する有機EL素子であって、前記電子注入電極は、金属または少なくとも金属の酸化物あるいはハロゲン化物を有し、前記有機層と電子注入電極との間にポルフィリン系化合物またはナフタセン系化合物を含有する緩衝層を有する有機EL素子。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H05B 33/14
, H05B 33/26
H05B 33/10
, H05B 33/14 A
, H05B 33/26 Z
