特許

J-GLOBAL ID：200903005088841864

電子放出素子形成用ニッケル錯体またはその水和物およびその溶液、並びに、電子放出素子および画像形成装置の製造方法

発明者： 岩城 孝志
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-078164
公開番号（公開出願番号）：特開平9-245615
出願日： 1996年03月07日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】 低コストでかつ容易に大面積に表面伝導型電子放出素子を形成する。【解決手段】 対向する電極間に有機金属化合物を付与し、これを加熱焼成する過程を経て電子放出部が設けられる表面伝導型電子放出素子に用いられる前記有機金属化合物であって、化1式で表されることを特徴とするニッケル錯体またはその水和物およびその溶液、並びに、これらを用いた電子放出素子、画像形成装置の製造方法。【化1】

請求項（抜粋）：

対向する電極間に有機金属化合物を付与し、これを加熱焼成する過程を経て電子放出部が設けられる表面伝導型電子放出素子に用いられる前記有機金属化合物であって、化1式で表されることを特徴とするニッケル錯体またはその水和物。【化1】

IPC (3件)：

H01J 1/30 ,  B41J 2/01 ,  H01J 9/02

FI (3件)：

H01J 1/30 B ,  H01J 9/02 B ,  B41J 3/04 101 Z