特許

J-GLOBAL ID：200903005091418182

X線分析装置およびX線分析方法

発明者： 宇高 忠
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-104865
公開番号（公開出願番号）：特開平7-286977
出願日： 1994年04月18日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：

【要約】【目的】 X線分析において、試料に照射される1次X線の強度が変動しても、常に精密な分析が可能なX線分析装置およびX線分析方法を提供する。【構成】 試料4からの2次X線の強度と、試料4に照射される1次X線の強度との強度比を強度比算出手段9により算出する。

請求項（抜粋）：

試料に照射される1次X線を発生するX線源と、前記1次X線の強度を計測する第1検出器と、この第1検出器で検出されたX線の強度を求める第1強度検知手段と、試料から発生する2次X線を検出する第2検出器と、この第2検出器で検出されたX線の強度を求める第2強度検知手段と、前記第2強度検知手段で求められた2次X線の強度を、前記第1強度検知手段で求められた1次X線の強度によって加工して、前記1次X線の強度変化による影響を除去するデータ加工手段とを備えたX線分析装置。