特許
J-GLOBAL ID：200903005105115420
プラズマ表面処理方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
黒田 勇治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-174631
公開番号（公開出願番号）：特開2001-002806
出願日： 1999年06月21日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：
【要約】【課題】 被処理物の表面処理の仕様に対しての融通性を高めることができ、かつ、大気圧若しくは微小加圧下でプラズマ処理することができ、真空雰囲気作製及び厳密なシール構造を採用せず、装置全体の構造を簡素化することができ、設備コストの低減を図ることができる。【解決手段】 ドラム電極7として、上記被処理物Wの片面を沿わせるドラム電極と残りの片面を沿わせるドラム電極とにより形成し、各ドラム電極の外周面に被処理物の通過間隙を存して複数個の配列電極8を対向並設してなる。
請求項（抜粋）：
フイルムシート状の被処理物をプラズマ励起用ガスで置換された雰囲気の処理室内に連続的に通過移送させ、該処理室内において、外周面に被処理物を沿わせる回転可能なドラム電極と該ドラム電極の外周面に被処理物の通過間隙を存して対向並設される複数個の配列電極との間に電圧を印加し、該通過間隙での被処理物の通過移送により両電極間に発生するプラズマによって被処理物の表面処理を行うに際し、上記被処理物の片面を沿わせるドラム電極と残りの片面を沿わせるドラム電極とにより被処理物を片面ずつ連続して表面処理を行うことを特徴とするプラズマ表面処理方法。
IPC (3件)：
C08J 7/00 306
, B29C 71/04
, B29L 7:00
C08J 7/00 306
, B29C 71/04
4F073AA01
, 4F073BB01
, 4F073CA01
, 4F073CA07
, 4F073CA08
, 4F073CA09
