特許

J-GLOBAL ID：200903005114552841

マスク汚染防止方法、マスク汚染防止装置及び露光装置

発明者： 村山 正幸
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 安瀬 正敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-415732
公開番号（公開出願番号）：特開2005-175324
出願日： 2003年12月12日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：

【課題】 マスク(レチクル)を不純物ガスによる汚染から防止すること。【解決手段】 清浄度がほぼ一定に保持されている露光室21内にあるレチクルRをさらに不純物ガスによる汚染から防止するために、露光光によって光触媒効果を発揮する光触媒膜70を利用し、この光触媒膜70によりレチクル雰囲気中の不純物ガスを分解除去する。光触媒膜70をレチクルR自体にコーティングする場合、光触媒膜70は露光光を吸収し、光触媒膜70により照度が低下して、生産性が低下するおそれがあるので、露光エネルギーを損失することなく光触媒効果を得ることが出来ように、露光エリア62内にあるパターン部の非透過部61に光触媒膜70をコーティングするか(図6参照)、非露光エリア63にコーティングするか、或いは非露光エリア63と露光エリア62内にあるパターン部の非透過部61の双方に光触媒膜70をコーティングする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

環境制御されたチャンバ内に配置される、露光転写用のパターンが形成されたマスクを不純物ガスに汚染されないようにする、マスク汚染防止方法であって、 前記マスク周辺の不純物ガスの濃度を所定値以下に制御することを特徴とするマスク汚染防止方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 ,  G03F1/08 ,  G03F1/14 ,  G03F7/20

FI (6件)：

H01L21/30 516F ,  G03F1/08 A ,  G03F1/14 K ,  G03F1/14 M ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502P

Fターム (12件)：

2H095BA01 ,  2H095BB01 ,  2H095BB29 ,  2H095BB30 ,  2H095BC24 ,  2H095BC36 ,  2H095BE12 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046CB17 ,  5F046DA06 ,  5F046DA27