特許
J-GLOBAL ID：200903005122587450
イオンビーム発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-029006
公開番号（公開出願番号）：特開2001-222961
出願日： 2000年02月07日
公開日（公表日）： 2001年08月17日
要約：
【要約】【課題】 原料ガスを通すガスライン中で原料物質が析出することを抑制して、イオン源に原料ガスを安定して供給することができるようにする。【解決手段】 イオン源12に原料ガス4を供給するガスラインを三つのオーブン31〜33に分けて格納した。第1のオーブン31は、原料ガス源2、その加熱器6およびバルブ8の入口付近までのガス配管16を格納していてそれらを設定温度T1 に加熱する。第2のオーブン32は、オーブン31の出口から流量調節器10の入口付近までのガス配管16およびバルブ8を格納していてそれらを設定温度T1 よりも高い設定温度T2 に加熱する。第3のオーブン33は、オーブン32の出口からイオン源12の入口付近までのガス配管16および流量調節器10を格納していてそれらを設定温度T2 よりも高い設定温度T3 に加熱する。
請求項（抜粋）：
常温で液体または固体の原料物質が収納された原料ガス源と、この原料ガス源を加熱してその内部の前記原料物質を気化させて原料ガスを発生させる加熱器と、前記原料ガス源から供給される前記原料ガスを通すものであって当該原料ガスの流量を調節する流量調節器と、この流量調節器から供給される前記原料ガスを電離させてイオンビームを発生させるイオン源と、前記原料ガス源と前記流量調節器との間に設けられたバルブと、前記原料ガス源、前記バルブ、前記流量調節器および前記イオン源の間を接続するガス配管とを備えるイオンビーム発生装置において、前記原料ガス源から前記バルブの入口付近までの前記ガス配管、前記原料ガス源および前記加熱器を格納していてそれらを第1の設定温度に加熱する第1のオーブンと、この第1のオーブンの出口から前記流量調節器の入口付近までの前記ガス配管および前記バルブを格納していてそれらを前記第1の設定温度よりも高い第2の設定温度に加熱する第2のオーブンと、この第2のオーブンの出口から前記イオン源の入口付近までの前記ガス配管および前記流量調節器を格納していてそれらを前記第2の設定温度よりも高い第3の設定温度に加熱する第3のオーブンとを備えることを特徴とするイオンビーム発生装置。
IPC (5件)：
H01J 27/02
, C23C 14/48
, H01J 37/08
, H01J 37/317
, H01L 21/265 603
H01J 27/02
, C23C 14/48 Z
, H01J 37/08
, H01J 37/317 Z
, H01L 21/265 603 A
4K029CA10
, 4K029DE01
, 5C030DD10
, 5C030DE05
, 5C030DG09
, 5C034CC01
