特許
J-GLOBAL ID：200903005127692170
プラズマCVMにおける残留不純物の低減法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
坂本 栄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-123675
公開番号（公開出願番号）：特開平7-331449
出願日： 1994年06月06日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：
【要約】【目的】プラズマCVMにおける加工面において、残留不純物を低減する方法を提供する。【構成】ハロゲン化物(SF6 、CF4 、NF3 、CCl4 )を1種または2種以上を含む加工ガスに酸化剤(O2 、O3 、N2 O)を1種または2種以上添加する。
請求項（抜粋）：
プラズマCVMにおける加工面において、ハロゲン化物を1種または2種以上を含む加工ガス中の元素を主成分とする残留不純物を低減するため、酸化剤を添加することを特徴とする残留不純物の低減法。
IPC (2件)：
引用特許：
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