特許

J-GLOBAL ID：200903005132193778

露光装置及び露光方法

発明者： 小川 茂樹
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-342841
公開番号（公開出願番号）：特開2003-142394
出願日： 2001年11月08日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：

【要約】【課題】 レチクルなどの原版の面形状に依存している傾き量やたわみ量を計測し、ステージで精度良くしかも効果的にその影響を取り除く補正をする。【解決手段】 第1物体としてのレチクル7を載置して移動するレチクルスキャンステージ1と、第2物体としてのウエハ3を載置して移動するウエハステージ4とを有し、ステージ1とステージ4を投影光学系2に対し同期させて走査させるとともに、投影光学系2を介してレチクル7上のパターンをウエハ3上に投影する。レチクル7及びウエハ3を観察する物体観察手段としてのTTRスコープ8を備え、該スコープ8は、観察した像の位置を検出する機能と共に観察したレチクル7に対してフォーカス合わせを行う機能を有し、フォーカス位置と観察したマークのXY方向の位置の間には一定の関係が存在する。

請求項（抜粋）：

第1物体を載置して移動する第1可動ステージと、第2物体を載置して移動する第2可動ステージとを有し、前記第1可動ステージと第2可動ステージを投影光学系に対し同期させて走査させるとともに、前記投影光学系を介して前記第1物体上のパターンを前記第2物体上に投影する露光装置において、前記第1物体及び第2物体を観察する物体観察手段を備え、該物体観察手段は、観察した像の位置を検出する機能と共に観察した前記第1物体に対してフォーカス合わせを行う機能を有し、フォーカス位置と観察したマークのXY方向の位置の間には一定の関係が存在することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22

FI (4件)：

G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 502 G

Fターム (13件)：

5F046AA28 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046DA05 ,  5F046DA13 ,  5F046DB05 ,  5F046DC04 ,  5F046DD06 ,  5F046FA17