特許

J-GLOBAL ID：200903005133442534

レジストの形成方法及び基体の加工方法、並びにフィルター構造

発明者： 原 昌輝
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-222240
公開番号（公開出願番号）：特開2001-052979
出願日： 1999年08月05日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：

【要約】【課題】 レジストを密着性良く形成できるレジストの形成方法、及び基体の加工方法、並びにフィルター構造を提供すること。【解決手段】 ガラス基板71とレジスト73との間にアルミニウム膜72を介在させることにより、アルミニウム膜72の密着性が高いためにガラス基板71とレジスト73との密着性を高めることができる。従って、レジスト73の剥離を防止することができると共に、レジスト73をマスクとして基体を良好にエッチング加工することができる。この方法はカラーフィルター構造にも応用することができる。

請求項（抜粋）：

レジストを成膜する基体の表面に特定の金属層を設け、この上にレジストを成膜する、レジストの形成方法。

IPC (10件)：

H01L 21/027 ,  C23F 1/00 101 ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/09 501 ,  G03F 7/105 501 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/38 501 ,  G03F 7/40 521 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/3065

FI (10件)：

H01L 21/30 563 ,  C23F 1/00 101 ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/09 501 ,  G03F 7/105 501 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/38 501 ,  G03F 7/40 521 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/302 J

Fターム (43件)：

2H025AA14 ,  2H025AB13 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025DA18 ,  2H025DA30 ,  2H025DA35 ,  2H025EA01 ,  2H025EA10 ,  2H025FA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA40 ,  2H025FA48 ,  2H096AA00 ,  2H096AA25 ,  2H096AA28 ,  2H096CA01 ,  2H096CA02 ,  2H096CA05 ,  2H096DA01 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA17 ,  2H096JA04 ,  2H096LA02 ,  4K057WB05 ,  4K057WB08 ,  4K057WB20 ,  4K057WE07 ,  4K057WN04 ,  5F004BA04 ,  5F004BA20 ,  5F004DB00 ,  5F004DB01 ,  5F004DB08 ,  5F004EA03 ,  5F004EB08 ,  5F046HA07