特許

J-GLOBAL ID：200903005134327194

成膜装置および成膜方法

発明者： 田中 貞雄 ,  成井 啓修 ,  簗嶋 克典 ,  目々澤 聡彦 ,  佐々木 浩司
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-298427
公開番号（公開出願番号）：特開2004-091913
出願日： 2002年10月11日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】マスクを用いた成膜においてのシャドウ効果を防止し、基板面内において均一な膜厚での薄膜形成を行うことが可能な成膜装置および成膜方法を提供する。【解決手段】基板Wの成膜面Waに膜パターンを形成するための成膜装置1であって、基板保持手段13と、これに保持された基板Wの成膜面Waに対向させた状態にマスク部材Mを保持するマスク保持手段と、これに保持されたマスク部材M側から基板Wの成膜面Waに成膜ガスGを噴き付けるガス供給手段20とを備えた。基板保持手段20は、基板Wの成膜面Waが略垂直に保たれるように基板Waを保持すると共に、ガス供給手段20から噴き出される成膜ガスGに対して基板Wおよびマスク部材Mを相対的に移動させる駆動手段や温度調整手段を備えている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板の成膜面に膜パターンを形成するための成膜装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板の成膜面に対向させた状態にマスク部材を保持するマスク保持手段と、 前記マスク保持手段に保持されたマスク部材側から前記基板保持手段に保持された基板の成膜面に成膜ガスを噴き付けるガス供給手段とを備えた ことを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

C23C14/04 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (3件)：

C23C14/04 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (12件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD01 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB12 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04