特許

J-GLOBAL ID：200903005144709532

光学的位置較正システム

発明者： リチャード・エフ・ランダウ ,  エドワード・ディー・シュルゼイズ
出願人/特許権者： バリアン・アソシエイツ・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 竹内 澄夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-151826
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115981
出願日： 1996年05月24日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：

【要約】【課題】真空を解除することなく、またシステムの中断を最小にしてマルチステーションウェーハ処理システムの移送アームを正確に較正するシステムおよび方法を提供する。【解決手段】密閉可能な半導体処理システム内でウェーハアームを較正する方法は、密閉可能な半導体処理システム内の識別可能な位置に移送アームの位置を、システムを密閉している一方で、検出する工程と、密閉可能な半導体処理システムを密閉する一方で、アームの前記位置を調節する工程と、密閉可能な半導体処理システム内で半導体ウェーハを処理する工程とを含む。

請求項（抜粋）：

密閉可能な半導体処理システム内でウェーハアームを較正する方法であって、前記密閉可能な半導体処理システム内の識別可能な位置で前記移送アームの位置を、前記システムを密閉している間に、検出する工程と、前記密閉可能な半導体処理システムを密閉する一方で、前記アームの前記位置を調節する工程と、前記密閉可能な半導体処理システム内で半導体ウェーハを処理する工程と、を含んで成る方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-120075   出願人：日電アネルバ株式会社
• 特開昭63-150916
  
• ウエハ異物検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-109809   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社