特許
J-GLOBAL ID:200903005160866303
表面処理装置および表面処理された希土類系永久磁石
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
清水 善廣
, 阿部 伸一
, 辻田 幸史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-003336
公開番号(公開出願番号):特開2006-118055
出願日: 2006年01月11日
公開日(公表日): 2006年05月11日
要約:
【課題】 高い真空度を得るために長時間をかけたり、特別の装置を使用したりすることなく、アルミニウムのような易酸化性蒸着材料を希土類系永久磁石のような被処理物に安定に蒸着させるための表面処理方法、この方法を実施するために好適な表面処理装置などを提供すること。【解決手段】 易酸化性蒸着材料からなる蒸着被膜を被処理物の表面に形成する表面処理方法であって、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスを供給した状態で前記蒸着材料を蒸発させることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
真空排気系に連なる処理室内に、蒸着材料の溶融蒸発部と、この蒸着材料が蒸着される被処理物の保持部を備えた表面処理装置であって、蒸着制御ガスを含有するワイヤー状蒸着材料を前記溶融蒸発部に供給するための蒸着材料供給手段を備えることを特徴とする表面処理装置。
IPC (2件):
FI (2件):
C23C14/24 M
, H01F41/02 G
Fターム (18件):
4K029AA04
, 4K029AA22
, 4K029BA02
, 4K029BA03
, 4K029BA17
, 4K029BA18
, 4K029BC01
, 4K029CA01
, 4K029CA03
, 4K029CA17
, 4K029DA04
, 4K029DB09
, 4K029DB15
, 4K029DB21
, 4K029FA04
, 4K029FA05
, 5E062CD04
, 5E062CG07
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