特許

J-GLOBAL ID：200903005164275504

ガス処理方法とその装置及びシステム

発明者： 清家 聡 ,  大石 和城
出願人/特許権者： 株式会社明電舎
代理人 (1件)： 橋本 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-343509
公開番号（公開出願番号）：特開2004-174370
出願日： 2002年11月27日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：

【課題】低廉かつ効率的に二酸化炭素を除去及び水素ガスを生成すると共に除去した二酸化炭素成分を有効利用する。【解決手段】ナトリウムイオン交換機能を有するポリマーからなる電解質膜10にアノード11とカソード12とを設け、アノード11にはナトリウム化合物の水溶液を接触すると共にカソード12には二酸化炭素と水分とを含むガスを供し、この両極間に直流電圧を印加することにより、カソード12側において前記ガス中の二酸化炭素を炭酸塩の形態で分離除去すると共に水素ガスを生成する。被処理ガスはスクラバー15において水若しくは水酸化ナトリウム水溶液の液滴と接触させた後にカソード12に供するとよい。カソード12側から排出された炭酸塩の水溶液は水処理システムの硝化及び脱窒工程に供してやるとよい。水処理システムから排出された汚泥硝化ガスはアノード11に供してやれるとよい。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ナトリウムイオン交換機能を有するポリマーからなる電解質膜にアノードとカソードとを設け、アノードにはナトリウム化合物の水溶液を接触すると共に、カソードには二酸化炭素と水分とを含むガスを供し、この両極間に直流電圧を印加することにより、カソード側において前記ガス中の二酸化炭素を炭酸塩の形態で分離除去すると共に水素ガスを生成することを特徴とするガス処理方法。

IPC (8件)：

B01D53/22 ,  B01D53/18 ,  B01D53/62 ,  B01D71/30 ,  B01D71/32 ,  B01D71/66 ,  C02F11/04 ,  C25B1/02

FI (8件)：

B01D53/22 ,  B01D53/18 E ,  B01D71/30 ,  B01D71/32 ,  B01D71/66 ,  C02F11/04 Z ,  C25B1/02 ,  B01D53/34 135Z

Fターム (41件)：

4D002AA09 ,  4D002BA02 ,  4D002BA20 ,  4D002CA01 ,  4D002DA02 ,  4D002DA35 ,  4D002EA02 ,  4D002EA05 ,  4D002FA04 ,  4D006GA41 ,  4D006HA41 ,  4D006KA01 ,  4D006KA31 ,  4D006KB01 ,  4D006KB19 ,  4D006MA03 ,  4D006MA12 ,  4D006MC24 ,  4D006MC27 ,  4D006MC28 ,  4D006MC61 ,  4D006PB19 ,  4D006PB64 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4D020AA03 ,  4D020BA01 ,  4D020BA23 ,  4D020BB03 ,  4D020CB25 ,  4D059AA03 ,  4D059BA12 ,  4D059CA14 ,  4D059CC10 ,  4K021AA01 ,  4K021BA01 ,  4K021BC01 ,  4K021DB31 ,  4K021DB53 ,  4K021DC03 ,  4K021DC15