特許
J-GLOBAL ID:200903005177183544

物体の自己浄化性表面とその形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 塩澤 寿夫 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-506157
公開番号(公開出願番号):特表平10-507695
出願日: 1995年07月25日
公開日(公表日): 1998年07月28日
要約:
【要約】山の間隔が5〜200μmの範囲であり、山の高さが5〜100μmの範囲であり、山が少なくとも疎水性ポリマーまたは永久疎水化材料からなり、山が水または洗剤を含む水によって除去され得ない、山と窪みからなる人工的な表面構造を有する物体の自己浄化性表面。
請求項(抜粋):
山の間隔が5〜200μmの範囲であり、山の高さが5〜100μmの範囲であり、山が少なくとも疎水性ポリマーまたは永久疎水化材料からなり、山が水または洗剤を含む水によって除去され得ない、山と窪みからなる人工的な表面構造を有することを特徴とする物体の自己浄化性表面。
IPC (6件):
B29C 59/00 ,  B05D 5/06 ,  B05D 7/24 302 ,  B29C 59/02 ,  B29C 59/04 ,  C09K 3/18 101
FI (6件):
B29C 59/00 C ,  B05D 5/06 B ,  B05D 7/24 302 L ,  B29C 59/02 B ,  B29C 59/04 C ,  C09K 3/18 101
引用特許:
審査官引用 (5件)
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