特許

J-GLOBAL ID：200903005183047989

化粧品基材

発明者： 中島 徹 ,  渡辺 美広 ,  坂 直子
出願人/特許権者： 日澱化學株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-251206
公開番号（公開出願番号）：特開平7-017826
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年01月20日
要約：

【要約】【構成】 MS値0.1〜1.8、窒素含有率0.2〜3重量%、30%水溶液粘度が3〜500cpsである低粘度カチオン化ヒドロキシアルキル澱粉からなる化粧品基材。【効果】 本発明の低粘度カチオン化ヒドロキシアルキル澱粉を用いた化粧品は、良好な使用感、仕上り感を与える。

請求項（抜粋）：

【請求項の数】 MS値0.1〜1.8の澱粉のヒドロキシアルキルエーテルにおいて、その中のヒドロキシル基の一部が下記化1の一般式(I)で示される残基で置換された構造を有し、かつ窒素含有率が0.2〜3重量%で30%水溶液の30°C粘度が3〜500cpsである低粘度カチオン化ヒドロキシアルキル澱粉からなる化粧品基材。【化1】

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭54-105190