特許

J-GLOBAL ID：200903005183939359

レジスト用現像液

発明者： 野本 昌吾 ,  酒井 章充 ,  北澤 宏造
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-088582
公開番号（公開出願番号）：特開平11-288102
出願日： 1998年04月01日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：

【要約】【課題】微細なレジストパターンにおいて溶解部の溶解性を促進し、非溶解部の溶解性を抑制するという溶解選択性に優れ、短時間で現像しうるレジスト用現像液及びそれを用いた現像方法を提供すること。【解決手段】アンモニア、一級アミン、二級アミン、三級アミン、イミン、アルカノールアミン、アミド、炭素数1〜8のアルキル基を有していてもよい複素環式化合物、及び式(I):【化1】〔R1 、R2 、R3 及びR4 はメチル基、エチル基、ヒドキシメチル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基又はビニル基〕で表される第四級アンモニウムヒドロキシドから選ばれた1種以上の塩基性化合物、並びにpKaの第一解離定数が25°Cで-12.0 〜9.0 である、水素酸及びその塩並びにオキソ酸及びその塩から選ばれた1種以上の酸化合物を含有するレジスト用現像液、及びそれを用いた現像方法。

請求項（抜粋）：

(A)アンモニア、一級アミン、二級アミン、三級アミン、イミン、アルカノールアミン、アミド、炭素数1〜8のアルキル基を有していてもよい複素環式化合物、及び式(I):【化1】〔式中、R1 、R2 、R3 及びR4 はそれぞれ独立してメチル基、エチル基、ヒドキシメチル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基又はビニル基を示す〕で表される第四級アンモニウムヒドロキシドからなる群より選ばれた少なくとも1種の塩基性化合物、並びに(B)pKaの第一解離定数が25°Cで-12.0 〜9.0 である、水素酸及びその塩並びにオキソ酸及びその塩からなる群より選ばれた少なくとも1種の酸化合物を含有してなるレジスト用現像液。