特許
J-GLOBAL ID：200903005220608554
半導体における周期構造の実時間分析
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
山崎 行造
, 岩橋 赳夫
, 杉山 直人
, 白銀 博
, 星 貴子
, 赤松 利昭
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-514342
公開番号（公開出願番号）：特表2004-536314
出願日： 2002年06月17日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
試料に形成された周期構造の特性を実時間で分析するシステムが開示されている。波長の関数としての信号を発生させる分光計測モジュールが提供される。出力信号は、評価のためプロセッサーに伝達される。プロセッサーは方形構造の理論的な初期モデルを構築する。次いで、プロセッサーは、この試料の広帯域放射に対する理論的な光学的応答を計算する。光学的応答の計算結果は、複数の波長において計測され正規化された値と比較される。この比較に基づいて、モデルの構成は実際の計測された構造により近づくよう修正される。プロセッサーは修正されたモデルの光学的応答を再計算し、計算結果を正規化されたデータと比較する。最適な方形が得られるまでこの処理が反復して繰り返される。その後、モデルを各々幅と高さを持つ層に分割しモデルの複雑さを反復して増大させる。構造が周期構造に類似するような最適なモデルが得られるまで、反復処理によりデータが最適化される。好ましい実施の形態において、プロセッサーは複数の並列処理プロセッサーにより構成される。モデルの光学的応答の計算ステップは、波長の関数としてプロセッサーに配分されるので、これらの計算は並列に行われる。複数の入射角における計測を用いる代替的な実施の形態もまた開示されている。
請求項（抜粋）：
試料に形成された周期構造の特性を分析する装置であって、
反射させるために前記周期構造に向けられた広帯域の探査用光線と、複数の波長において当該探査用光線の振幅又は位相の変化を計測しこれらに対応する出力信号を発生する検出モジュールとを含む分光計測システム、及び、マスタープロセッサーとデータを並列に処理するよう用意された複数のスレーブプロセッサーとを有するプロセッサーシステムを具備し、
前記プロセッサーシステムは、前記計測システムから発生された出力信号を用いて実時間ベースで周期構造の特性を明らかにするものであり、前記プロセッサーシステムは、周期構造のモデルを有し、周期構造の特性についての初期推定に基づく複数の波長における各々の波長での理論データを計算し、当該理論データを前記出力信号から導き出された正規化されたデータと比較し、その後、比較結果に基づき試料の特性についての推定を修正して新たな理論データを再計算し、前記計算されたデータと前記正規化されたデータとの差が最小になるまで前記比較と前記再計算とを繰り返すアルゴリズムを用いるものであり、理論データの前記計算は、前記マスタープロセッサーにより前記スレーブプロセッサーに配分され、各スレーブプロセッサーは、求める結果に到達するまでの時間が最小になるよう、選択された波長における計算を並列して行う装置。
IPC (5件)：
G01B11/02
, G01N21/21
, G01N21/27
, H01L21/027
, H01L21/66
G01B11/02 Z
, G01N21/21 Z
, G01N21/27 B
, H01L21/66 J
, H01L21/30 502V
2F065AA22
, 2F065AA23
, 2F065AA24
, 2F065CC25
, 2F065HH14
, 2F065LL67
, 2F065QQ00
, 2F065QQ25
, 2F065QQ42
, 2G059AA03
, 2G059BB16
, 2G059EE02
, 2G059EE05
, 2G059EE12
, 2G059GG01
, 2G059JJ02
, 2G059JJ05
, 2G059JJ06
, 2G059MM01
, 2G059MM02
, 4M106AA01
, 4M106BA04
, 4M106CA39
, 4M106DB03
, 4M106DH03
, 4M106DJ11
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
