特許
J-GLOBAL ID:200903005225995556
電解イオン水洗浄方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
吉田 茂明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-170967
公開番号(公開出願番号):特開平10-015509
出願日: 1996年07月01日
公開日(公表日): 1998年01月20日
要約:
【要約】【課題】 洗浄むらの発生が少ない電解イオン水洗浄方法および装置を提供することを目的とする。【解決手段】 電解イオン水生成ユニット10で電解液を電気分解して得られた陰イオン水NWを洗浄ユニット20でノズル23から噴射して基板30を洗浄し、基板30の洗浄処理に使用した後に回収して電解イオン水生成ユニット10に帰還させて循環使用する。陰イオン水NWが循環中に攪拌されるとともに、ノズル23の先端部の陰イオン水NWが噴射されることにより拡散されて基板30表面に付着するため、基板30表面での陰イオン水NWの濃度むらが少なくなり、そのため洗浄むらの発生を軽減できる。
請求項(抜粋):
電解液を電気分解して陽イオン水と陰イオン水とを生成し、陰イオン水を用いて液晶表示装置用ガラス基板の洗浄処理を行う方法において、電解槽において前記陰イオン水と陽イオン水とを生成し、前記電解槽の外部において陰イオン水をノズルから噴射して前記基板の洗浄を行うことを特徴とする電解イオン水洗浄方法。
IPC (6件):
B08B 3/10
, C02F 1/46
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
FI (6件):
B08B 3/10 Z
, C02F 1/46 A
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, H01L 21/304 341 L
, H01L 21/304 341 N
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