特許

J-GLOBAL ID：200903005233284928

耐熱性感光性重合体組成物及びパターンの製造法

発明者： 布村 昌隆 ,  大江 匡之 ,  佐々木 守 ,  内村 俊一郎
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-246813
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084653
出願日： 1997年09月11日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【課題】 感度が高く、現像時間を短くでき、形成された膜の諸特性、特に、基板との接着性が良いポジ型の耐熱性感光性重合体組成物及びパターンの製造法を提供する。【解決手段】 (a)一般式(I)【化1】(式中、R1は4価の有機基を示し、R2はフェノール性水酸基を有する2価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するポリイミド、(b)一般式(II)【化2】(式中、R3は4価の有機基を示し、R4は2価の有機基を示し、R5は1価の有機基を示し、qは1以上の整数を示す)で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸、並びに(c)光酸発生剤を含有してなる耐熱性感光性重合体組成物及びこの耐熱性感光性重合体組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、露光する工程、現像する工程及び加熱処理する工程を含むパターンの製造法。

請求項（抜粋）：

(a)一般式(I)【化1】(式中、R1は4価の有機基を示し、R2はフェノール性水酸基を有する2価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するポリイミド、(b)一般式(II)【化2】(式中、R3は4価の有機基を示し、R4は2価の有機基を示し、R5は1価の有機基を示し、qは1以上の整数を示す)で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸、並びに(c)光酸発生剤を含有してなる耐熱性感光性重合体組成物。

IPC (10件)：

G03F 7/037 501 ,  C08L 79/08 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312 ,  H05K 3/28 ,  H05K 3/46

FI (11件)：

G03F 7/037 501 ,  C08L 79/08 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/312 B ,  H05K 3/28 D ,  H05K 3/46 T ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 571