特許
J-GLOBAL ID:200903005233698757

基板状態測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-007304
公開番号(公開出願番号):特開平5-196431
出願日: 1992年01月20日
公開日(公表日): 1993年08月06日
要約:
【要約】【目的】 被検査基板の変形に関わらず、高精度な3次元計測を可能とする基板状態測定装置を提供することを目的とする。【構成】 被測定基板1の状態を測定する状態測定手段3と、状態測定手段の設置位置を経るようにして被測定基板1を次々と移送する移送手段2と、状態測定手段3により得られるひ測定基板1の状態を解析して各被検査基板1を測定する測定処理手段と、被測定基板を状態測定手段3によって測定するための位置決め手段4,5と、被測定基板1を保持する被測定基板保持手段9と、被測定基板1の変形を解消する被測定基板固定手段12とを備え、被測定基板固定手段12により、被検査基板を固定し、状態測定手段3によって被測定基板1の状態を測定することにより、被測定基板1が被測定基板保持手段9の保持面に吸着されて、被測定面の平面度を出すため、高精度な3次元測定が可能となる。
請求項(抜粋):
被測定基板の状態を測定する状態測定手段と、前記状態測定手段の設置位置を経るようにして被測定基板を次々と移送する移送手段と、前記状態測定手段により得られる被測定基板の状態を解析して各被測定基板を測定する測定処理手段と、前記被測定基板を前記状態測定手段によって測定するための位置決め手段と、前記被測定基板を保持する被測定基板保持手段と、前記被測定基板の変形を解消する被測定基板基板固定手段とを備え、かつ前記被測定基板固定手段により被検査基板を固定し、前記状態測定手段によって被測定基板の状態を測定することを特徴とする基板状態測定装置。
IPC (2件):
G01B 11/24 ,  H05K 3/34
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開平2-067948
  • 特開昭53-069069
  • 特開昭63-154946
審査官引用 (4件)
  • 特開平2-067948
  • 特開平2-067948
  • 特開昭53-069069
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