特許
J-GLOBAL ID：200903005237020313
CVD装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-347945
公開番号（公開出願番号）：特開平6-204143
出願日： 1992年12月28日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：
【要約】【目的】CVD装置において放射温度計でウエハの温度分布を測定する際に、赤外線透過窓に膜が付着するのを防止し、ウエハ温度分布の測定を容易にする。また、その結果に基づいて、複数ゾーンに分割したヒータの発熱量制御を行い、ウエハ温度の均一性を向上させる。【構成】ウエハ1に反応ガスを供給するガス導入口14を通して測定するように放射温度計5を配置し、このガスの流れによって反応生成物がガス供給ヘッド6に逆流して赤外線透過窓8に付着することを防止する。これにより、赤外線透過窓8は常に一定の透過率に保たれ、放射温度計5による温度測定の精度が向上する。複数の放射温度計5を用いる他に、2次元受光器を有した放射温度計5やトラバース装置に取り付けた放射温度計5を用いて温度分布を測定する。
請求項（抜粋）：
反応室内に設けた加熱ステージ上にウエハを設置し、前記ウエハを加熱すると同時にガスを流して前記ウエハ上に膜を生成するCVD装置において、前記ウエハに対面した位置に設けた複数の小孔を有するガス供給ヘッドと、前記ガス供給ヘッドに対して前記ウエハと反対側に設けた赤外線透過窓を設け、その外側に放射温度計を設けてなることを特徴とするCVD装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C30B 25/14
, H01L 21/66
