酸化物の成膜方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-021850
公開番号（公開出願番号）：特開平10-219462
出願日： 1997年02月04日
公開日（公表日）： 1998年08月18日
要約：

【要約】【課題】従来のゾルゲル法では有機残基等が薄膜中に残存したり、酸化膜中の酸素の存在比が求める結晶系に対し低くなってしまったり、厚膜化が困難なこと等が課題であった。【解決手段】有機金属化合物を原料とするゾルを基板に塗布後乾燥し、これに紫外線を照射してから高温に加熱する。必要に応じ塗布、乾燥、紫外線照射、加熱工程を繰り返す。または積層してから一括高温加熱する。また工程中の雰囲気を必要に応じ制御する。これらの酸化物をアニールすることで、酸化物結晶薄膜とする。

請求項（抜粋）：

有機金属化合物を原料とするゾルを基板に塗布し、ゲル化乾燥させた後、高温に加熱して酸化物薄膜とするゾルゲル法において、乾燥後に紫外線を照射してから高温に加熱することを特徴とする酸化物の成膜方法。

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